Ранее представители Intel высказывали мнение, что вслед за 16-нм нормой обязательно потребуется мощный технологический рывок для преодоления существующих ограничений. Однако внедрение перспективной EUVL (субмикронной ультрафиолетовой литографии) в очередной раз откладывается: если прежде в Санта-Кларе рассчитывали задействовать ее при выпуске 22-нм кремниевых чипов, то сейчас речь идет уже о 16-нанометровых кристаллах и внедрении примерно через 2 года.
Говоря об исследованиях Intel в области фотолитографии, мы всегда держим в уме применение тех или иных разработок в производстве микропроцессоров. Для других крупных игроков рынка IT, занимающихся тиражированием менее сложных интегральных схем, задача несколько упрощается. Например, Samsung планирует начать практическое использование ULV-сканеров в изготовлении NAND флеш-памяти «до 2012 года».
Источник:
EETimes