Технологический гигант Samsung Electronics отчитался о финальном запуске и начале серийного производства полупроводниковых изделий по 6-нм и 7-нм технологическим нормам с применением экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV). Речь идет о новой фабрике V1 в городе Хвасон, Южная Корея.
Данное предприятие было торжественно открыто в феврале 2018-го и начало тестовое производство во второй половине минувшего года. И только сейчас корпорация отладила и запустила массовое производство кремниевых пластин. Первые продукты на базы таких микросхем могут поступить в продажу еще в первом квартале. Совокупные инвестиции в V1 превысят 6 млрд долларов США к концу 2020 года.
В настоящее время Samsung использует EUV-установки фотолитографии на линиях V1 для техпроцессов 6LPP и 7LPP. В будущем их можно применить для более тонких техпроцессов 5LPE, 4LPE, 3GAE и 3GAP. Что касается типа продукции, то 7LPP и 6LPP используются для создания передовых мобильных однокристальных систем для техники Samsung и партнёров.
Фабрики Samsung
Техпроцесс 6LPP является промежуточным узлом и развитием 7LPP. Он предлагает немногим более высокую плотность транзисторов (~ 10%) и сниженное потребление энергии. С другой стороны, к преимуществам 6LPP можно отнести полную совместимость с 7LPP, когда для выпуска кремниевых пластин по одному дизайну используются одинаковое оборудование.