По сообщениям ряда источников, один из крупнейших китайских производителей полупроводниковой продукции Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) объявил о планах начать мелкосерийное производство по 7-нм технологическим нормам в четвертом квартале 2020 года.
Перспективный 7-нм узел по внутреннему обозначению SMIC назван N+1. По сравнению со своей текущей литографией 14 нм, SMIC обещает улучшение производительности на 20%, увеличение плотности размещения транзисторов на 63% или уменьшение общей площади кристалла на 55%.
В дальнейшем 7-нм техпроцесс N+1 будет подвергнут оптимизациям, в результате которых он станет называться N+2 и сможет предложить лучшую энергоэффективность и небольшой рост производительности. Отметим, что возможности SMIC на данный момент не предусматривают использование экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV), поэтому в технологическом плане китайцы все еще ощутимо отстают от лидеров полупроводникового производства Samsung и TSMC.
Что интересно, расходы SMIC на подготовку 7-нм производства достигнут 3,1 миллиарда долларов, что превышает годовой доход компании. Очевидно, что львиную долю инвестиций и незримое руководство обеспечивает китайское правительство, кровно заинтересованное в развитии наукоемкой промышленности ударными темпами. Например, $2 млрд пойдет на строительство новой фабрики SMIC в Шанхае, а еще $500 млн на расширение производства в Пекине, которые будут заниматься выпуском 300-мм пластин.
Источник:
WCCFtech
