Появились данные о планах Intel по освоению новых техпроцессов. Сейчас компания выпускает процессоры на базе техпроцесса Intel 7 (10 нм). В этом году ожидается появление процессоров Meteor Lake и Granite Rapids на техпроцессе Intel 4 (7 нм). Ожидается, что новый техпроцесс позволит увеличить производительность на ватт на величину около 20%. Далее в планах переход на техпроцесс Intel 3 с максимальной оптимизацией структуры транзисторов FinFET.
Компания уже разрабатывает следующие технологические процессы под кодовым названием 20A (эквивалент 2 нм) и 18A (эквивалент 1,8 нм) на базе литографического оборудования EUV от ASML. На смену технологии FinFET придет RibbonFET и PowerVia. Запуск производства на базе 20A и 18A могут начать уже в 2024 году.
Согласно одной из утечек с дорожной картой по освоению новых техпроцессов, компания планирует запустить 14A (эквивалент 1,4 нм) в 2026 году, а к 2028 году хочет выйти на производство по нормам 10A (эквивалент 1 нм).
Эти техпроцессы будут использовать литографическое оборудования EUV нового поколения. Первые такие машины для литографии EXE: 5000 появятся в 2026 году, и стоимость их значительно возрастет. Если стоимость актуального оборудования около 150 миллионов долларов, но будущие литографы могут стоить более 400 миллионов.
Источник:
Wccftech
