Профессор Цумору Шинтаке (Tsumoru Shintake) из Окинавского института науки и технологий (Okinawa Institute of Science and Technology OIST) представил упрощенную конструкцию для EUV-литографии. Эта разработка способна серьезно уменьшить себестоимость производства полупроводников чипов и в будущем может серьёзно повлиять на всю индустрию.
Команда японских ученых представила систему из двух зеркал в оптической проекционной установке, что существенно отличается от традиционных конфигураций с шестью зеркалами. Для эффективной работы такой системы ученые решили две ключевые проблемы: предотвращение оптических аберраций и обеспечение эффективной передачи света. Система «двухлинейного поля» от OIST освещает фотомаску при минимальных искажениях, что повышает точность изображения на кремниевой пластине.
Важным преимуществом такого минималистского дизайна является повышение надежности и снижение сложности оборудования. Также такие инструменты для EUV-литографии позволят резко снизить энергопотребления. Благодаря оптимизированному оптическому пути система работает с источником света EUV мощностью всего 20 Вт, что позволит ограничиться общим энергопотреблением установки менее 100 кВт. В то же время традиционные системы для EUV-литографии часто требуют мощности более 1 МВт. Пониженное энергопотребление позволит упростить и систему охлаждения.
Эффективность новой конструкции проверена с помощью компьютерного оптического моделирования. Команда OIST уверена в том, что их разработку можно будет внедрить в массовое производство. Экономические последствия такого изобретения многообещающие. Полупроводниковая индустрия может получить новый толчок для развития. Однако пока не ясно, насколько японская разработка готова к практическому внедрению.
Источник:
Tom's Hardware
