З'явилися дані про плани Intel з освоєння нових техпроцесів. Сьогодні компанія випускає чипи на основі 10-нм технології Intel 7, а до кінця року очікується поява процесорів Meteor Lake та Granite Rapids на 7-нм техпроцесі Intel 4. Прогнозується, що він дозволить збільшити продуктивність на ват на величину близько 20%. Далі у планах перехід на техпроцес Intel 3 з максимальною оптимізацією структури транзисторів FinFET.
Компанія вже розробляє нові технологічні процеси під кодовою назвою 20A (еквівалент 2 нм) та 18A (еквівалент 1,8 нм) на базі літографічного обладнання EUV від ASML. На зміну технології FinFET прийде RibbonFET та PowerVia. Запуск виробництва на базі 20A та 18A можуть розпочати вже у 2024 році.
Згідно з одним із витоків, що містить дорожню карту з освоєнням нових техпроцесів, компанія планує запустити 14A (еквівалент 1,4 нм) у 2026 році, а до 2028 року хоче вийти на виробництво за нормами 10A (еквівалент 1 нм).
Ці техпроцеси використовуватимуть літографічне обладнання EUV нового покоління. Перші такі машини для літографії EXE: 5000 з'являться у 2026 році, і їхня вартість значно зросте. Якщо ціна актуального обладнання становить близько 150 мільйонів доларів, то майбутні літографи можуть коштувати понад $400 мільйонів.
Джерело:
Wccftech
