Професор Цумору Шінтаке (Tsumoru Shintake) з Окінавського інституту науки й технологій (Okinawa Institute of Science and Technology OIST) представив спрощену конструкцію для EUV-літографії. Ця розробка здатна серйозно зменшити собівартість виробництва напівпровідників чипів і в майбутньому може серйозно вплинути на всю індустрію.
Команда японських учених представила систему з двох дзеркал в оптичній проєкційній установці, що суттєво відрізняється від традиційних конфігурацій із шістьма дзеркалами. Для ефективної роботи такої системи вчені розв'язали дві ключові проблеми: запобігання оптичним абераціям і забезпечення ефективної передачі світла. Система «дволінійного поля» від OIST освітлює фотомаску за мінімальних спотворень, що підвищує точність зображення на кремнієвій пластині.
Важливою перевагою такого мінімалістського дизайну є підвищення надійності та зниження складності обладнання. Також такі інструменти для EUV-літографії дадуть змогу різко знизити енергоспоживання. Завдяки оптимізованому оптичному шляху система працює з джерелом світла EUV потужністю лише 20 Вт, що дасть змогу обмежитися загальним енергоспоживанням установки менше ніж 100 кВт. Водночас традиційні системи для EUV-літографії часто вимагають потужності понад 1 МВт. Знижене енергоспоживання дасть змогу спростити й систему охолодження.
Ефективність нової конструкції перевірена за допомогою комп'ютерного оптичного моделювання. Команда OIST впевнена в тому, що їхню розробку можна буде впровадити в масове виробництво. У такого винаходу великі економічні перспективи. Напівпровідникова індустрія може отримати новий поштовх для розвитку. Проте поки не зрозуміло, наскільки японська розробка готова до практичного впровадження.
Джерело:
Tom's Hardware